Pecvd

Нанопотрождение плазмы (PECVD)-это метод, который использует технологию химического осаждения химического пары в плазме (усиление химического паров в плазме) для достижения наноразмерной защиты. Техника PECVD ионизирует газы, содержащие тонкоплентные составляющие атомы с помощью микроволновых или радиочастотных методов, образуя плазму локально. Из -за высокой химической реакционной способности плазмы возникают легко, что позволяет отложить наноразмерные пленки с пыльными, водонепроницаемыми и антикоррозионными функциями на ПХБ или PCBA.